单压力进样残余气体分析仪｜半导体芯片质量的“护航手”

  奕瑞科技QRGA OIS系列残余气体分析仪自去年成功问世以来，市场反馈良好。公司通过一年的技术创新及品质提升，近日再推出由奕瑞自主研发，具备完全自主知识产权的QRGA CIS系列单压力进样残余气体分析仪，相较于针对高真空范围的OIS系列，该系列工作的真空压力范围可覆盖中低真空，分析压力范围更广，可对半导体关键制程进行连续而精准的气体监测，为晶圆和面板的表面保护以及工艺优化提供有力保障。该设备采集速度快、灵敏度较高，具备优异的最小可检测分压以及良好的系统稳定性，能快速确定真空腔体内气体分压数据，帮助主机系统准确判断气体泄漏情况，有效监控过程气体，识别污染气体等。因此，QRGA CIS系列单压力进样残余气体分析仪在半导体制造及显示器面板制造领域展现出了广泛的应用前景。

  在半导体制造领域，无论是ALD、PVD、CVD还是Etch等复杂工艺，QRGA CIS系列单压力进样残余气体分析仪都能实现全程实时监测。其高采样率与高灵敏度的特性，确保了气体分析的快速与准确，有很大成效避免了因缺乏监控而导致的产量损失或工艺偏差。这种以预防为主的监测策略，不仅提升了生产效率，更确保了产品质量的稳定。

  在半导体PM过程中，QRGA CIS系列单压力进样残余气体分析仪同样发挥着不可或缺的作用。通过精准监控PM后至完全正常运行期间各个压力区间的残余气体分压值，并与每次维护后的数据来进行比对，就能够迅速判断腔体内部环境是不是正常，从而大幅度提高维护效率，降低机台保养时间。这一创新应用，不仅有效控制了机台维修成本，更有助于提升公司的经济效益，实现可持续发展。

  在显示器面板制造领域，特别是涉及高精度技术如OLED（有机发光二极管）或LCD（液晶显示器）制造时，真空环境的质量至关重要。例如，在OLED制作的完整过程中，需要沉积有机材料层，任何外来气体都可能会影响到沉积的质量。奕瑞QRGA CIS系列单压力进样残余气体分析仪可有效监控真空环境，实时监测真空腔体内气体成分的变化，高效识别潜在污染源。RGA可当作诊断工具，帮助工艺工程师持续监测制作的完整过程中存在的污染气体，并检验预期工艺气体的存在。这有助于提前发现潜在问题，防止故障发生，从而保障生产的连续性和稳定性。

  总压测量，超压自动关闭灯丝和真空泵组，自带泵组吹扫功能，提高系统耐候性和工作寿命

  奕瑞科技将继续秉承“创新、务实、高效”的企业精神，致力于半导体与显示面板制造领域的深耕细作。我们始终相信，QRGA CIS系列单压力进样残余气体分析仪的推出，将为行业带来更精准、高效的制程监控与保护解决方案。